这几年光刻机这个词很火，因为光刻机是生产半导体芯片的核心设备，没有先进的光刻机就无法制造先进工艺制程的芯片，而美国针对中国目前没有掌握先进光刻机技术的情况下，联合荷兰等国家对中国光刻机出口进行限制。
当地时间 6月30日，荷兰政府发布了《先进半导体制造设备法规》，对先进半导体制造设备进行出口管制， 管制措施将在9月1日生效，到时候 想要出口相关设备，必须获得 授权后才能出口， 荷兰光刻机巨头阿斯麦公司（ASML）无疑首当其冲。
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在光刻机领域，荷兰ASML实力强劲，ASML在高端光刻机领域已经一家独大，之前ASML的 EUV光刻（极紫外光刻）系统已经受到限制，早就无法向中国出口，不过浸润式DUV光刻机依旧可以对中国出口。
这次荷兰政府的相关法规开始对浸润式DUV光刻机下手了，ASML对这次的新规进行了回应，根据新出口管制条例的相关规定，需要获得荷兰的许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统， 不过ASML也表示并非所有浸润式DUV光刻系统都受到限制。
根据ASML的官网信息，目前ASML的主流DUV光刻机产品共有三款设备，分别是TWINSCAN NXT：1980Di、2000i和、2050i，其中2000i和2050i需要获得许可才能出口，而1980Di及档次更低的产品应该还可以继续出口。
从相关信息来看，中国依旧可以从ASML进口光刻机，但都是技术相对落后的部分DUV光刻机，想要先进的光刻机没门。
这其实属于美国精准打击中国芯片产业发展的关键环节，希望以此来锁死中国高端芯片制造技术的突破，同时还可以继续让盟友对中国出口部分设备而获利，不可谓不鸡贼。
那么如何才会让荷兰放开管制呢？答案也很简单，那就是中国取得突破，美国发现封锁失败后才会放开。那么目前国内的光刻机技术走到哪一步了？
简单来说 ， 上海微电子已经实现了90nm设备的量产，至于更高端的28nm DUV光刻机，目前还没看到交付商用，可以看到上海微电子和ASML的差距还是很明显的，有业内人士认为二者的差距起码在20年左右。
总之在光刻机这块，目前的形势不容乐观，不仅仅ASML限制出口，日本也对浸没式光刻机进行了限制，而且其标准更严格，对45nm以下的设备都会禁止出口。
不过对于这种情况，大家应该早就料到了，摆在眼前的路基本上只有打造自主可控的芯片产业链，才可以彻底解决卡脖子的问题。
